在原子層沉積（ALD）中使用臭氧（O?）作為氧化劑時，臭氧發(fā)生器及其相關設備是關鍵組成部分。以下是ALD中臭氧發(fā)生器整套設備的組成及其連接方式：
所需設備
1. 臭氧發(fā)生器
- 功能：產生高純度臭氧。
- 類型：常見的有電暈放電式和紫外光解式。
- 輸出：臭氧濃度通常在1-20%之間，具體取決于ALD工藝需求。
- 根據(jù)濃度要求：推薦同林3S-T10 或 ATL -H30 高濃度臭氧發(fā)生器
2. 氧氣源
- 功能：提供高純度氧氣作為臭氧發(fā)生器的原料。
- 設備：氧氣瓶或氧氣發(fā)生器。
- 連接：通過氣體管路連接到臭氧發(fā)生器的進氣口。
3. 質量流量控制器（MFC）
- 功能：精確控制氧氣和臭氧的流量。
- 連接：氧氣源和臭氧發(fā)生器之間安裝MFC，確保穩(wěn)定供氣。
4. 臭氧濃度監(jiān)測儀
- 功能：實時監(jiān)測臭氧濃度。
- 連接：安裝在臭氧發(fā)生器出口，確保臭氧濃度符合工藝要求。
- 推薦3S-J5000紫外臭氧檢測儀
5. 氣體混合室
- 功能：將臭氧與其他反應氣體（如前驅體）混合。
- 連接：臭氧發(fā)生器出口與ALD反應室之間。
6. ALD反應室
- 功能：進行原子層沉積過程。
- 連接：氣體混合室通過氣體管路連接到反應室。
7. 尾氣處理系統(tǒng)
- 功能：處理未反應的臭氧和副產物，防止環(huán)境污染。
- 設備：臭氧分解器、尾氣洗滌器等。
- 連接：反應室出口連接到尾氣處理系統(tǒng)。
8. 控制系統(tǒng)
- 功能：自動化控制臭氧發(fā)生器、MFC、反應室等設備。
- 連接：通過電信號或軟件與各設備連接。
設備連接流程：
1. 氧氣源 →質量流量控制器 → 臭氧發(fā)生器。
2. 臭氧發(fā)生器 → 臭氧濃度監(jiān)測儀 → 氣體混合室 → ALD反應室。
3. ALD反應室 → 尾氣處理系統(tǒng)。
4. 控制系統(tǒng) 連接并監(jiān)控所有設備。
注意事項：
- 氣體管路：需使用耐臭氧腐蝕的材料（如不銹鋼、聚四氟乙烯）。
- 安全性：臭氧具有強氧化性，需確保設備密封性并配備泄漏檢測裝置。
這套設備及其連接方式確保了臭氧在ALD中的高效、安全應用。
